光刻气：用于激发出一种特定波长和能量的激光• 光刻气主要包括稀有气体如氦、氖、氩、氪和氙，主要用于半导体制程中的光刻工艺，影响着集成电路芯片的性能与产出。光刻气体在此过程中有两个主要作用：一是作为光刻机激光源的气体介质，发射特定波长的光线，使得光刻胶产生化学反应，形成芯片上微小的电路图案；二是用于刻蚀过程，通过光刻气的等离子体状态，刻蚀掉光刻胶覆盖层未保护的部分，形成所需的电路图案。
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