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　　激光化学刻蚀通常是指在一定气体氛围下用高强度激光照射硅表面，以达到极高的腐蚀速度，也称照相平板印刷。不同于溶液或电化学腐蚀，激光刻蚀对形状及轮廓适应性强，可制造形状复杂的微型机械。

　　有选择性地从衬底（硅片）表面去除不需要的材料，目的是在涂胶硅片上获得光刻图形对应的图形，受光刻胶保护的材料层不被腐蚀源所侵蚀

　　刻蚀质量检查：确保电路图形转移不失真，特别是关键部位尺寸，多采用光发射分光仪法和激光干涉法。